OPIE'26に共同出展いたします

2026年4月22日から24日にパシフィコ横浜で開催される、光とレーザーの総合展示会「OPIE'26」に出展いたします。
本展示会は、光学素子やレーザー、赤外・紫外技術など多岐にわたる分野の最新技術・製品が集結する、国内最大級の光学専門展示会です。

今回は、ZABER国内総代理店である理科研株式会社様のブースにて共同出展をいたします。理科研株式会社、ANVOS Analytics、embrioの3社による「Motion Control Cluster LAB」として、ライフサイエンスから産業用途まで、光学系自動化ソリューションをワンストップでご紹介いたします。

ブースでは、以下を中心にご説明・デモンストレーションを行います。

1. 各種電動ステージを活用した光学系装置の自動化ソリューション
2. 研究・産業用途における装置インテグレーション事例
3. 実験自動化のためのソフトウェア開発支援実績

ご来場の際にはぜひお気軽にお立ち寄りください。

日時：2026年4月22日(水)〜4月24日(金) 10:00〜17:00
場所：パシフィコ横浜　展示ホールA-C・アネックスホール

展示会URL：https://www.opie.jp/
出展者情報：https://www.opie.jp/2026/list/info.php?id=5300&ex=
出展内容（ZABER/理科研株式会社HP）：https://zaber-rkjp.com/news/p3799/